-
电子束刻蚀Quantum DesignMicrowriter ML3 应用:小型无掩膜光刻直写系统(MicroWriter)的新研究应用
Quantum Design电子束刻蚀Microwriter ML3用于测定MoS2、Cr2S3,符合行业标准High-Performance Wafer-Scale MoS2
-
小型台式无掩膜光刻机电子束刻蚀Microwriter ML3 适用于无掩膜光刻直写
Quantum Design电子束刻蚀Microwriter ML3可用于测定MoS2、Cr2S3,适用于无掩膜光刻直写项目。并且参考多项行业标准High-Performance
-
牛津仪器Etch刻蚀工艺
化合物半导体刻蚀AlGaN/GaN/AlN—刻蚀氮化铝镓深度刻蚀GaP—感应耦合等离子体刻蚀磷化镓刻蚀GaAs/AlGaAs—刻蚀砷化镓/砷化铝镓刻蚀GaSb—刻蚀锑化镓刻蚀GaN—刻蚀氮化镓刻蚀
-
小型台式无掩膜光刻机
-
Obducat电子束刻蚀系统
仪器简介:1998年Obducat公司并购了在SEM有三十年经验的Camscan,并结合自身在纳米压印设备以及光存储设备的开发经验,研发了电子束刻蚀设备,提供EBR-30kV
-
牛津仪器PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀
我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。
-
牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备
PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极,能够在很宽的温度范围内进行工艺,具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力,该工艺模块可提供具有高度均匀,高产量和高精度的工艺。
-
牛津仪器PlasmaPro100 Estrelas刻蚀设备 高刻蚀速率腔刻蚀
-
小型台式无掩膜光刻机电子束刻蚀Quantum Design 可检测Cr2S3
Quantum Design电子束刻蚀Microwriter ML3参考多项行业标准High-Performance Wafer-Scale MoS2 Transistors toward
-
Quantum Design小型台式无掩膜光刻机电子束刻蚀 应用于电子/半导体
Quantum Design电子束刻蚀Microwriter ML3用于测定MoS2、Cr2S3,符合行业标准High-Performance Wafer-Scale MoS2
-
1.
沃特世国产液质联用系统首发,持续加码本土化布局
-
2.
安捷伦推出新型光谱流式细胞仪NovoCyte Opteon
-
3.
美国将37个中国实体列入“黑名单” 含一所高校 多家科研院所
-
4.
总投资539.82亿元 贵州发布第一批大规模设备更新清单
-
5.
浙大328亿排第二!全国高校2024年度预算经费出炉,24所高校破百亿
-
6.
江苏省大规模设备更新 2027年教育卫生仪器设备更新44万套以上
-
7.
拉曼光谱仪2024Q1市场分析| 科研之光VS监管之盾的双重选择
-
8.
42个领域 北京2024年首批设备购置与更新改造贷款贴息项目开始申报
-
9.
8分委 187人 国家药监局成立化妆品标准化技术委员会
-
10.
国办印发《关于创新完善体制机制 推动招标投标市场规范健康发展的意见》
想在此推广您的产品吗?
咨询热线: 010-84839035
联系邮箱: sales@antpedia.net